阵列简介 - 第 9 页 / 共 9 页 主题起始页 上一页

任务 7. 沿弯曲曲面填充阵列 (续)

  1. 选取“保存的视图列表”(Saved View List) 图标,然后选取 BACK_PATTERN 返回到前一个定向。

  2. 在模型树中右键单击 PROTRUSION1 的 PATTERN2,然后选取“编辑定义”(Edit Definition)

  3. 在屏幕底部的操控板中选取“选项”(Options) 选项卡。

  4. 将半径按钮从“恒定”(Constant) 改为“跟随曲面形状”(Follow Surface Shape)。

  5. 在操控板右侧选取“完成特征”(Complete Feature) 图标。

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